Laser-Lithographie System

• Fachliche Zuordnung: Materialwissenschaft
• Förderung: Förderung in 2025
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 569551455

Das Projekt hat die Installation einer maskenlosen optischen Lithographie im DFG-Gerätezentrum Kieler Nanolabor zum Ziel. Diese wird durch einen LASER-Belichter realisiert, der durch die Bestückung mit zwei UV-Quellen der Wellenlängen 375 nm und 405 nm größtmögliche Flexibilität hinsichtlich der zu belichtenden Lacke bietet. Mit dem LASER-Belichter werden Strukturauflösungen bis in den 300 nm Größenbereich sowie graustufenlithographische Anwendungen möglich. Anwendung findet der LASER-Belichter in mehr als 20 wissenschaftlichen Projekten u.a. zur Erzeugung von Oberflächenwellensensoren mit Mittenfrequenzen im GHz-Bereich, memristiven Bauelementen für neuromorphe Systeme, sowie 2.5-dimensionalen mikrofluidischen Systemen für Lab on Chip-Geräte als auch periodischen magnetischen Strukturen im Submikrometerbereich für die Erforschung magnonischer Strukturen.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Laser-Lithographie System
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Christian-Albrechts-Universität zu Kiel
• Leiter: Dr. Dirk Meyners