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Projekt
Elektronenstrahl Beschichtungsanlage
Fachliche Zuordnung
Physik der kondensierten Materie
Förderung
Förderung seit 2026
Projektkennung
Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 581474360
Das Elektronenstrahl-Verdampfungssystem besteht aus einem Hochvakuum-Rezipienten mit verschiedenen integrierten thermischen, Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-unterstützten Verdampfungsquellen, die zur Herstellung hochqualitativer dielektrischer Dünnfilme eingesetzt werden können. Insgesamt wird das System für die Abscheidung von SiO₂-, TiO₂- und SiN-Dünnfilmen optimiert und eignet sich zudem für die Abscheidung metallischer Dünnfilme. Die oben genannten Dielektrika spielen eine wichtige Rolle bei der Realisierung hochwertiger optischer Mikroresonatoren, die wir für unsere Untersuchungen der Licht-Materie-Wechselwirkung in Quantenmaterialien verwenden.
DFG-Verfahren
Forschungsgroßgeräte
Großgeräte
Elektronenstrahl Beschichtungsanlage
Gerätegruppe
8380 Schichtdickenmeßgeräte, Verdampfungs- und Steuergeräte (für Vakuumbedampfung, außer 833)
Antragstellende Institution
Carl von Ossietzky Universität Oldenburg
