Elektronenstrahllithographiesystem mit Interferometertisch

• Fachliche Zuordnung: Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
• Förderung: Förderung von 2007 bis 2010
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 61539341

Der Zentralbereich des Sonderforschungsbereiches SFB 755 Nanoscale Photonic Imaging braucht ein leistungsfähiges Elektronenstrahllithographiesystem, mit dem großflächige Nanostrukturen für verschiedenen Röntgenoptiken (Zonenplatten, Wellenleiter, Refraktive Linsen), Mikrofluidiksysteme sowie Teststrukturen für die STED-Mikroskopie hergestellt werden können. Dazu ist insbesondere eine interferometrischer Verschiebetisch erforderlich (fixed beam moving stage), um Versatzfehler (stitching errors) zu vermeiden. Die wissenschaftliche Begründung ist durch Begutachtung des SFB 755 im Detail untersucht und befürwortet worden. Der interferometrischer Verschiebetisch soll demnach als Zusatzgerät von der DFG finanziert, die Grundeinheit von der Universität über HBFG-Mittel getragen werden.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Georg-August-Universität Göttingen
• Leiter: Professor Dr. Tim Salditt