UHV-Sputter Anlage

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2008
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 71985013

Die UHV-Sputter-Anlage soll für die neu gegründete Arbeitsgruppe an der LMU eingesetzt werden. Es wird erwartet, dass die Anlage für die meisten Projekte verwendet wird. Es ist geplant, Aluminium-Filme aufzusputtern, zu anodisieren und dann die selbst-angeordneten Poren via Elektrodeposition zu füllen. Nach Ätzung des Al2O3 erhält man freistehende Nanodrähte-Anordnungen auf beliebigen leitfähigen Substraten. Diese äußerst vielseitige Methode zur Herstellung strukturierter Nanodrähte ist für die geplanten Projekte notwendig: - Herstellung von Nanodrähten-Anordnungen aus verschiedenen Metall-Oxiden (z.B. TiO2, ZnO, Cu2O, etc.) zur Verwendung in Hybrid Solarzellen. Ggf. werden auch Metall-Oxid/Metall-Oxide Strukturen untersucht.- Herstellung von TiO2 nano-Poren Anordnungen auf leitfähigen transparenten Glas-Substraten für Hybrid-Solarzellen.- Herstellung von organischen Nanodrähten und deren Verwendung in organischen Solarzellen mitkontrollierter Morphologie.- Herstellung von Nanodrähten für weitere Anwendungen/Untersuchungen (z.B. in Sensoren).Weitere Anwendungen in Kooperationen insbesondere mit CeNS & NIM Partnern sind geplant.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 8330 Vakuumbedampfungsanlagen und -präparieranlagen für Elektronenmikroskopie
• Antragstellende Institution: Ludwig-Maximilians-Universität München
• Leiter: Professor Lukas Schmidt-Mende, Ph.D.