Anlage zur Photolithographie mit Belackungsanlage

• Fachliche Zuordnung: Physik der kondensierten Materie
• Förderung: Förderung in 2008
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 87303600

Eine Anlage für die Photolithographie soll den zusätzlichen Bedarf an Forschung für die Masterstudenten und Doktoranden in den neuen Masterstudiengängen bzw. in der Research Academy Leipzig und der Graduiertenschule BuildMoNa abdecken. Das zu beschaffende Gerät ist ein manueller Maskaligner, der einerseits besonders einfach in der Handhabung ist, gleichzeitig aber auch die Mikro- und Nanostrukturierung von Oberflächen mit Auflösungen von wenigen 10 nm erlaubt. Dabei sollen die herkömmliche Lithographie basierend auf Photolacken genauso durchgeführt werden wie das ‚Nanokontaktimprinting’, das der hier angefragte Maskaligner erlaubt. Die mit diesen Techniken herstellbaren Proben werden neue Experimente in der Physik der weichen Materie, Nuklearen Festköperphysik und auch der Halbleiterphysik erlauben. Der Maskaligner wird die Attraktivität der Graduiertenschule ‚BuildMoNa’ und des Masterstudienganges erhöhen, die praktische Ausbildung der Studenten verbessern und gleichzeitig die Bearbeitungszeit der Diplom- und Doktorarbeiten in den beteiligten Arbeitsgruppen verringern, da die nötigen Arbeiten Vorort durchgeführt werden können.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Gerätegruppe: 5440 Reproduktionskameras, optische Spezialgeräte für Halbleitertechnologie
• Antragstellende Institution: Universität Leipzig
• Leiter: Professor Dr. Josef Alfons Käs