Kombinierte RIE- und PECVD-Anlage

• Subject Area: Electrical Engineering and Information Technology
• Term: Funded in 2008
• Project identifier: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Project number 94041593

„Für die Laserstrukturierung verfügt das Institut über ein Photolithographie-Labor mit Laserlithographie, Mask-Aligner, Spincoater, Hotplates und Mikroskopen. Mit dieser Ausrüstung werden routinemäßig Strukturgrößen bis hinab zu 0,8 (m realisiert. Für die Strukturübertragung in die jeweiligen Materialsysteme stehen am Institut bisher keine Trockenätzprozesse zur Verfügung, so dass im Institut nur auf nasschemische Verfahren zurückgegriffen werden konnte. Metallische oder dielektrische Beschichtungen werden im Institut mit Aufdampf- oder Sputterprozessen durchgeführt. Diese Verfahren ermöglichen aber keine konforme Beschichtung von Strukturen mit hohen Aspektverhältnissen. Außerdem sind die Materialdichte gering und die Defektdichte hoch, so dass in vielen Fällen ein elektrisches Versagen resultiert. Die PECVD-Technik sollte hier zu defektfreien, dichten und verlustärmeren Filmen verhelfen. Derartige Filme sind sowohl für die Herstellung von mikromechanischen Systemen und Metamaterialien in der Mikrowellentechnik als auch als Wellenleiter- bzw. Cladding-Schichten definierbarer und gut kontrollierbarer Brechzahl unverzichtbar.“

• DFG Programme: Major Research Instrumentation
• Instrumentation Group: 0920 Atom- und Molekularstrahl-Apparaturen
• Applicant Institution: Technische Universität Braunschweig
• Leader: Professor Dr.-Ing. Wolfgang Kowalsky