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UHV-Analytik Cluster

Fachliche Zuordnung Verfahrenstechnik, Technische Chemie
Förderung Förderung in 2010
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 139613283
 
Erstellungsjahr 2014

Zusammenfassung der Projektergebnisse

Die kombinierte UHV-Analytik spielte eine dominierende Rolle in diversen DFG-geförderten Grundlagenprojekten zur Korrelation von Oberflächenchemie und Materialeigenschaften. Im folgenden seien die wichtigsten Projekte gelistet. Im DFG Schwerpunktprogramm „Partikel im Kontakt“ (SPP 1486) PIKO wurden UHV-basierte AFM Messungen der Kontaktkräfte von TiO2-Oberflächen untersucht. Hierbei gelang es zum ersten Mal, atomar saubere Kontaktkräfte unter UHV-Bedingungen mit der molekularen Struktur der Grenzfläche zu korrelieren. An einkristallinen TiO2 und Al2O3-Oberflächen erfolgte die grundlegende Analytik der Oberflächenterminierung, die für die Adsorbatbildung sowie die Selbstorganisation von aliphatischen Phosphonsäuren ursächlich sind. Im Rahmen eines von der AiF geförderten Projekts zum Korrosionsschutz von Magnesiumlegierungen (AiF IGF-358ZN) konnte mittels XPS die Selbstorganisation von schützenden Organophosponsäuren nachgewesen werden. Im SFB Transregio 87 “Gepulste Hochleistungsplasmen für die Synthese nanostrukturierter Funktionsschichten“ wurde das UH-Analytiksystem in zwei Teilprojekten sehr erfolgreich eingesetzt. Bei der Charakterisierung von HPPMS TiAlN-Schichten gelang es, die Chemisorption von Sauerstoff zeitaufgelöst durch Nutzung des Multi-Kanaldetektors bei einem Partialdruck von 10^-8 mbar aufzuklären. Dabei zeigte sich eine präferentielle Oxidation von Ti zu einem Oxidationszustand (+III). Diese experimentellen Ergebnisse konnten mit der theoretischen Berechnung des Chemisorptionsprozesses in Einklang gebracht werden. Zudem wurden die Passivierungsprozesse auf MAlN(O) (M = Ti, Cr) HPPMS Beschichtungen unter atmosphärischen Bedingungen aufgeklärt. Im Rahmen der Plasmaaktivierung von Polypropylen wurde die Kombination aus der Ionenstrahlaktivierung in der Präparationskammer mit der XPS-Analyse sowie der UHV-AFM basierten Adhäsionsmessung genutzt. Oezkaya et al. konnten zeigen, dass eine O2-Ionenstrahlaktivierung zu einem initialen Sauerstoffeinbau unter Bildung von C-OH-Funktionen führt, die von einer die makromolekulare Struktur abbauenden weiteren Oxidation zu Carboxylgruppen gefolgt wird. Die chemische Strukturaufklärung erfolgte durch eine Kombination der Analyse der kernnahen Schalen sowie der Valenzbänder. Nur die initiale Sauerstofffunktionalisierung führte dabei zu einer Kontaktkrafterhöhung zu einer SiO2-Oberfläche. Bei zunehmender Oxidation der Oberfläche fiel die Kontaktkraft wieder auf einen Basiswert ab. Dies zeigt die Bedeutung der Erhaltung der makromolekularen Struktur bei der Plasmaaktivierung vor einer SiOx-Schichtabscheidung. Im Rahmen eines von der Christian-Doppler-Gesellschaft geförderten Projekts gelang es, die Selbstlokalisierung von Organothiolen und Organophosphonsäuren auf heterogenen Al/Cu-Oberflächen nachzuweisen.

Projektbezogene Publikationen (Auswahl)

 
 

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