Oxid-Nanostrukturen: Wachstum, Wachstumsmechanismen und Oberfächenreaktivität unter-sucht durch Atomlagenabscheidung im Millibar-Druckbereich (C04)

• Fachliche Zuordnung: Festkörper- und Oberflächenchemie, Materialsynthese
• Förderung: Förderung von 2014 bis 2017
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 234149247

Im Fokus des Projekts stehen Wachstumsmechanismen und Grenzflächeneigenschaften von Metalloxiden, hergestellt durch selbstlimitierende Oberflächenreaktionen im Millibar-Druckbereich. Die zentrale Fragestellung zielt auf das Verständnis der strukturellen Entwicklung und den Einfluss von Oberflächenspezies auf das Wachstum von Metalloxiden. Dies soll durch die Entwicklung von Abscheidungsprozessen von Silikaten, Aluminosilikaten und Eisenoxiden auf verschiedenen Substraten, sowie durch Untersuchungen der Oberflächenreaktivität und der Grenzflächeneigenschaften mittels in situ FT-IR realisiert werden. Stabilitäts- und Lösungsverhalten werden durch in situ- und ex situ-Techniken studiert.

• DFG-Verfahren: Sonderforschungsbereiche
• Teilprojekt zu: SFB 1109: Molekulare Einblicke in Metalloxid-Wasser-Systeme: Strukturelle Evolution, Grenzflächen und Auflösung
• Großgeräte: FT-IR spectrometer
• Antragstellende Institution: Humboldt-Universität zu Berlin
• Teilprojektleiter: Professor Dr. Nicola Pinna