Nanoimprint-Lithographiesystem

• Fachliche Zuordnung: Optik, Quantenoptik und Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
• Förderung: Förderung in 2020
• Projektkennung: Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 453679344

Wir beantragen ein Nanoimprint-Lithographiesystem (UV-NIL) als eine von drei Hauptkomponenten einer modularen Nanoproduktionsanlage. Das UV-NIL-System ist für die präzise und schnelle Realisierung und Replikation von 2D und 2.5D Mikro- und Nanostrukturen erforderlich. Das System soll es ermöglichen, die Produktionseffizienz solcher Strukturen erheblich zu steigern und einen hohen Durchsatz sowie eine hohe Flexibilität zu erzielen. Es wird in Kombination mit einem Laser-Nanofabrikationssystem auf Basis von Zwei-Photonen-Polymerisation (TPP) eingesetzt, mit dem die Master-Tools für die anschließende UV-NIL-Replikation der Mikro- und Nanostrukturen hergestellt werden.In der modularen Nanoproduktionsanlage wird das Nanoimprint-Lithographiesystem zusammen mit dem Laser-Nanofabrikationssystem zur Realisierung von 2D, 2,5D und 3D Mikro- und Nanostrukturen durch ein optisches Metrologiesystem zur präzisen Messung aller relevanten Parameter wie etwa Strukturgeometrien, Abmessungen, Strukturgrößen und Oberflächenrauheiten ergänzt. Alle Module werden zu einer multiskaligen Produktionskette zur Realisierung verschiedener integrierter optischer Elemente, Subsysteme und ganzer Funktionssysteme für vielfältige Anwendungen von optischen Netzwerken über Monitoring und Sensorik bis hin zu Bildgebung und Metamaterialien zusammengesetzt.Das beantragte Nanoimprint-Lithographiesystem (UV-NIL) – und letztlich die modulare Nanoproduktionsanlage - bietet eine kombinierte Produktions- und Charakterisierungsumgebung und wird von den Gruppen der vier Hauptnutzer und einer Reihe zusätzlicher Kooperationspartner umfassend genutzt. Für den optimalen Zugang und Betrieb wird es in eine gemeinsame Infrastruktur integriert. Betrieb und Service werden zentral von einer Arbeitsgruppe der Antragsteller organisiert.Das beantragte System ist derzeit in den Gruppen der geplanten Benutzer nicht verfügbar.

• DFG-Verfahren: Forschungsgroßgeräte
• Großgeräte: Nanoimprint-Lithographiesystem
• Gerätegruppe: 0910 Geräte für Ionenimplantation und Halbleiterdotierung
• Antragstellende Institution: Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
• Leiter: Professor Dr. Bernhard Roth