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Optisch aktive Silizium-basierte nanostrukturierte III-V Verbindungshalbleiter (OASIS)

Fachliche Zuordnung Experimentelle Physik der kondensierten Materie
Elektronische Halbleiter, Bauelemente und Schaltungen, Integrierte Systeme, Sensorik, Theoretische Elektrotechnik
Festkörper- und Oberflächenchemie, Materialsynthese
Herstellung und Eigenschaften von Funktionsmaterialien
Förderung Förderung seit 2023
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 522061391
 
Ein neuartiges, aus Silizium-basiertes Hybridmaterialsystem wird entwickelt und untersucht, das in Zukunft möglicherweise einen sehr großen Einfluss haben kann bei der Integration von elektrooptischaktiven Bauelementen auf einer Si-Plattform. Im Rahmen von einigen Vorstudien konnte klar gezeigt werden, dass es möglich ist, III-VNanocluster vollständig in eine defekt-freie kristalline Siliziummatrix einzuschließen. In diesem Projekt soll diese neuartige Materialklasse weiter entwickelt werden mittels einer, speziell dafür ausgerichteten Molekularstrahlepitaxieanlage und die morphologischen (mit XRD, AFM, FIB-SEM, TEM) und optoelektronischen Eigenschaften (mit lowT PL, Reflexions- und Anregungsspektroskopie, Photostrom- und CVMessungen) untersucht werden. Die Arbeiten werden maßgeblich begleitet durch die Theorie. Dies beinhaltet die Simulation des Wachstumsprozesses weit entfernt vom thermischen Gleichgewicht und die Berechnung von Bandstrukturen und Bandkanten-Offsets. Durch den Vergleich der Theorie mit optischen und elektrischen Messungen soll erstmals ein grundlegendes Verständnis der optischen, elektrischen und morphologischen Eigenschaften erarbeitet werden.
DFG-Verfahren Sachbeihilfen
 
 

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