Herstellung von "Silicon-On-Insulator"-Schichten durch Ionenimplantation bei geringen Dosen in Kombination mit anschließenden Plasmabehandlungen

Antragsteller Professor Dr.-Ing. John Thomas Horstmann

Fachliche Zuordnung Elektronische Halbleiter, Bauelemente und Schaltungen, Integrierte Systeme, Sensorik, Theoretische Elektrotechnik

Förderung Förderung von 2003 bis 2008