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FOR 365:  Teilchenstrahlen-stimulierte Ultrapräzisions-Oberflächenbearbeitung

Fachliche Zuordnung Informatik, System- und Elektrotechnik
Förderung Förderung von 1999 bis 2007
Projektkennung Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG) - Projektnummer 5466172
 
Die Forderung nach Oberflächen mit Formgenauigkeiten von besser als 0,25 nm RMS und Mikrorauhigkeiten unter 0,2 nm RMS sowohl für plane, sphärische als auch für zunehmend benötigte asphärische Flächen (z.B. für die erwartete EUVL - Extreme Ultraviolett-Lithographie:) sowie für 3D-Mikrostrukturen sind allein mit mechanischen bzw. mechanisch-chemischen Verfahren nicht mehr zu erreichen, so dass Ionen(strahl)- und Plasma(strahl)-Verfahren zunehmend (auf Teilgebieten bereits heute) für die Bereiche Formgebung, Glättung, 3D-Strukturierung und ultraglatte Schichten mit Tiefengenauigkeiten im Nanometer- und Subnanometerbereich unverzichtbar sind. Industrienahe F&E wird mit hoher Intensität international betrieben. In Deutschland fördertder BMBF vor allem im Rahmen von Industrieverbundprojekten in denKompetenzzentren der Nanotechnologie CC-UPOB (Ultrapräzisionsbearbeitung) und CC-UFS (Ultradünne Schichten) diese Arbeiten. Die Zeitskala für die Erschließung der Nanometer-Tiefengenauigkeit für die o.g. Gebiete setzt die an Verfahrens-, Ausrüstungs- und/oder Produktentwicklungen Beteiligten untererheblichen Zeitdruck, so dass Prozesse oft schon zu einem Zeitpunkt genutzt werden, da viele Grundphänomene noch nicht oder nur unzureichend geklärt sind, mit der Folge unzureichender Wissenspotenziale für Weiterentwicklungen und Prozessoptimierungen.Die Forschergruppe trägt dazu bei, einerseits Grundlagendefizite speziell im Bereich bereits vorhandener oder angestrebterIndustrieanwendungen von niederenergetischen Ionenstrahlen und Plasma-Jets zum lokalen und großflächigen Materialabtrag, zur Glättung und zur Materialabscheidung für optoelektronische Emitterbauelemente sowie zur besseren Parametrisierung der Ionenstrahlquellen zu verringern. Andererseits werden Lösungsansätze für neue Anwendungen zur Herstellung dreidimensionaler mikrooptischer Oberflächenstrukturen, zur Replikationstechnologie durch Imprint-Verfahren und zum ionenstrahl-gestützten Wafer-Direktbonden vonA3-B5-Materialien erarbeitet.
DFG-Verfahren Forschungsgruppen
Internationaler Bezug Belgien

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